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优尼康科技提供光通讯器件全流程膜厚测量方案:Filmetrics F20/F50/F54膜厚仪、F3-sX厚膜测厚仪、F32在线膜厚监控系统等。覆盖平面波导(PLC)晶圆膜厚、DWDM窄带滤光片膜层厚度、铌酸锂薄膜厚度与光学常数(n/k)、光通讯芯片SiOx/SiNx介质膜等关键参数测量,助力光通讯器件研发与量产良率提升。
TEL:
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