光刻胶缺陷检测:ONTO PrimaScan缺陷检测系统方案

2026-08-12 15:12:57 优尼康
光刻胶缺陷检测:ONTO PrimaScan缺陷检测系统方案 | 优尼康科技
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图:光刻胶涂膜晶圆缺陷扫描(ONTO 原 LUMINA实测):Pits/Bump 160、Film Defect 419、Particle 2154(优尼康科技实测,Recipe已脱敏)

一、光刻胶缺陷的来源与危害

光刻胶涂膜后产生的表面缺陷主要来自三个环节:

  • 涂胶前:衬底清洗不彻底、环境颗粒沉降、设备残留。

  • 涂胶中:光刻胶本身含颗粒、过滤不充分、旋涂时气泡破裂。

  • 涂胶后:软烘不充分导致溶剂挥发不均、凝胶点(gel particle)、环境二次污染。

这些缺陷会直接传递到后续光刻与刻蚀工艺,导致 CD 偏差、桥连、断线、孔洞等问题。在 7nm 以下节点,单个 50 nm 颗粒就能让一片晶圆报废。因此涂胶后全片缺陷扫描是 Fab 量测实验室的标准动作。

关于客户数据脱敏提醒:本次示例的缺陷扫描实测图来自客户实际生产晶圆,由ONTO 原 LUMINA采集(Recipe 字段以"Recipes"字段空白形式呈现,客户配方名已脱敏),客户 ID、Lot ID、Sample Size 等信息已去除,仅保留缺陷分类与计数用于技术演示。

二、光刻胶缺陷检测的痛点

光刻胶缺陷检测面临三个挑战:

  • 缺陷类型多样:颗粒(particle)、孔洞(pit)、凸起(bump)、划伤(scratch)、凝胶点(gel)、底膜残留(residue)形态各异,需要设备能同时识别多种类型。

  • 对软胶不损伤:光刻胶是软物质,接触式检测(如 SEM/TEM 切片)会破坏样品;非接触式光学扫描是更合适。

  • 通量要求高:量产场景下每片晶圆都要扫描,扫描时间要在 1-3 分钟以内。

对这些问题,ONTO PrimaScan 缺陷检测系统用非接触光学扫描 + 智能分类算法是当前主流方案。

三、ONTO PrimaScan 缺陷检测系统方案

优尼康科技精密薄膜测量设备

ONTO PrimaScan 是 ONTO Innovation 旗下的薄膜表面缺陷检测系统,专为光刻胶、PI、介质膜等薄膜表面缺陷检测设计。它用非接触光学扫描(明场 + 暗场双模式)结合 AI 分类算法,可自动识别并分类 Pits/Bump、Film Defect、Particle 三类缺陷。

项目ONTO PrimaScan 缺陷检测系统
量测模式非接触光学扫描(明场 + 暗场)
晶圆尺寸200mm / 300mm 全幅
扫描时间1-2 分钟 / 8 英寸晶圆
缺陷分类Pits/Bump、Film Defect、Particle 三类自动分类
缺陷尺寸范围约 0.1 μm 至数百 μm
输出缺陷 map + 分类统计 + 高倍显微图(点击缺陷位置)

ONTO PrimaScan 的核心优势是自动分类 + 高倍回看。扫描结束后,软件会自动把每个缺陷按形态分类(颗粒、孔洞、线状缺陷),并给出每个缺陷的坐标与尺寸。点击任意缺陷位置,软件会自动跳转到该位置的高倍显微图,工程师可以直接判断缺陷类型与可能来源。

四、实测案例(ONTO 原 LUMINA 缺陷检测系统)

作为参考,下表为ONTO 原 LUMINA对一片光刻胶涂膜晶圆做缺陷扫描的实测结果(已脱敏处理):

缺陷类型数量说明
Pits/Bump160孔洞与凸起,可能来自涂胶气泡或凝胶点
Film Defect419线状/条状膜缺陷,可能来自旋涂不均或烘烤温度场不均
Particle2154颗粒,可能来自环境颗粒沉降或光刻胶过滤不充分
总计2733主要问题:颗粒污染(占 79%)
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图1:光刻胶涂膜晶圆缺陷扫描(ONTO 原 LUMINA实测),分类统计 Pits/Bump 160、Film Defect 419、Particle 2154(Recipe已脱敏)
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图2:4 个高倍回看位置(左上、右上、左下、右下),用于判断具体缺陷形态(ONTO 原 LUMINA实测)

从缺陷分布看,颗粒(Particle)占 79%,是本次涂膜工艺的主要问题。建议排查方向:

  • 涂胶前衬底清洗(SC1/SC2 配比、超声时间)

  • 涂胶环境颗粒度(FFU 过滤效率、洁净度等级)

  • 光刻胶本身过滤(0.1-0.2 μm 终端过滤器是否堵塞)

  • 旋涂机本身的颗粒源(吸盘、真空管路)

对 Film Defect(线状/条状缺陷),主要看分布是否呈"同心圆"或"辐射状",前者通常是旋涂加速度异常,后者通常是烘烤热场不均。

关于设备名称:LUMINA 已被 ONTO Innovation 收购,该实测数据由 ONTO(原 LUMINA)缺陷检测系统采集,设备型号与扫描能力未变,现归属于 ONTO PrimaScan 系列。Recipe 调试与应用支持由优尼康科技本地应用工程师团队完成。

五、PrimaScan 与其他缺陷检测设备的区别

市面上缺陷检测设备种类很多,ONTO PrimaScan 与其他主流设备的定位差异如下:

设备适用对象光源缺陷尺寸应用
ONTO PrimaScan薄膜表面(光刻胶、PI、介质)明场 + 暗场光学0.1-500 μm涂膜后全片扫描
ONTO Celero-PL化合物半导体晶圆明场 + 暗场光学0.3-500 μmIII-V 族/InP 缺陷扫描
28/39xx 系列裸片/图案片深紫外激光20-100 nm光刻后图形缺陷
Surfscan 系列裸片颗粒激光散射30 nm 以上裸片颗粒监控
eDR 系列图案片高分辨电子束10 nm 以下仲裁级高分辨

简而言之:涂膜后薄膜表面缺陷扫描用 ONTO PrimaScan;化合物半导体晶圆用 ONTO Celero-PL;裸片/图案片缺陷扫描用 28/39xx 或 Surfscan。它们在产线上的位置不同,不能互相替代。

六、常见问题

关于颗粒数 2154 是否合格:对 8 英寸光刻胶涂膜晶圆,颗粒数 < 500 通常认为合格;500-2000 处于临界,需要排查污染源;> 2000 通常意味着工艺存在系统性问题(如过滤器失效、洁净度失控)。本次 2154 处于"必须排查"区间。
关于 Film Defect(线状缺陷)的来源:线状/条状缺陷常见来源:旋涂加速度异常、烘烤热场不均、吸盘痕迹。如果分布呈同心圆,重点查旋涂曲线;如果呈辐射状,重点查烘烤热场;如果呈直线状,重点查吸盘或夹具。
关于 Pits(孔洞)的来源:孔洞常见来源:涂胶前衬底亲水性不足、旋涂时气泡破裂、显影液残留。可以通过调节 HMDS 处理参数、降低旋涂加速度、加涂胶前预润等步骤改善。

问:光刻胶涂膜后用 ONTO PrimaScan 还是 KLA 28xx 系列?

答:涂膜后薄膜表面缺陷扫描用 ONTO PrimaScan(非接触光学扫描 + 智能分类);光刻后图形片缺陷扫描用 KLA 28/39xx 系列(深紫外激光 + 模式匹配)。两台设备在产线上的位置不同,不能互相替代。

问:ONTO PrimaScan 扫描一片 8 英寸晶圆要多久?

答:1-2 分钟。ONTO PrimaScan 的全幅扫描速度在薄膜缺陷检测仪中属于较快的水平,适合量产线 inline 监控。

问:ONTO PrimaScan 能识别 50 nm 以下的颗粒吗?

答:ONTO PrimaScan 的缺陷尺寸下限约 0.1 μm(100 nm)。对 100 nm 以下的颗粒,KLA Surfscan 系列(激光散射)或 28xx 系列(深紫外)更合适。

问:ONTO PrimaScan 缺陷分类准确率多高?

答:ONTO PrimaScan 用 AI 分类算法,对典型 Pits/Bump、Film Defect、Particle 三类缺陷的分类准确率约 90-95%。对边缘案例(介于颗粒与孔洞之间),软件会标记为"待人工判定",需要工程师看高倍回看图判断。

问:ONTO PrimaScan 扫描后会自动停机吗?

答:ONTO PrimaScan 是全自动化设备,可以配 SECS/GEM 接口与产线 MES 系统对接,实现无人值守扫描 + 自动判定 + 自动上传数据。具体对接方式请联系我们的应用工程师。

关于优尼康科技

优尼康科技成立于 2012 年,是 ONTO Innovation 旗下 PrimaScan 缺陷检测系统在中国区的授权代理。我们提供 PrimaScan 销售、Recipe 调试与缺陷分类应用支持。

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