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晶圆减薄与刻蚀工艺需要实时监控剩余厚度,防止过磨或刻蚀过度。本文介绍 Filmetrics F3-sX 光学厚膜测厚仪在晶圆减薄(研磨)及刻蚀工艺中的厚度监控应用,可实现大厚度范围的非接触快速测量。
基于光干涉原理,非接触无损测量
适合晶圆减薄/研磨后的厚膜监控
支持刻蚀工艺中的厚度实时反馈
光模块芯片膜厚测量:衬底减薄到端面镀膜全覆盖
磷化铟 InP 衬底减薄厚度均匀性测量
半导体行业晶圆·薄膜·缺陷检测方案
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