GB/T 40279-2021《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》是推荐性国家标准，2021-08-20 发布、2022-03-01 实施，由全国半导体设备和材料标准化技术委员会（SAC/TC 203）及材料分会（SAC/TC 203/SC 2）归口。该标准统一了硅片表面薄膜厚度的测试方法，让不同厂家、不同实验室测出来的数据可以横向对齐。
本标准规定的光学反射法，与优尼康科技代理的 Filmetrics 光谱反射法膜厚仪采用同一技术路线。优尼康科技（翌颖科技（上海）有限公司）是该标准的起草单位之一。
测试对象与范围：硅片表面二氧化硅薄膜、多晶硅薄膜，测试范围 15nm～10⁵nm
仪器配置：光源（波长 190nm～1050nm）、光谱仪、光纤探头、样品台、计算机及软件
测量环境：6 级洁净度，温度 23℃±3℃，相对湿度 30%～50%
精度指标与计算：测量重复性（二氧化硅 ≤±0.5%、多晶硅 ≤±1.5%）、折射率取值、菲涅尔公式与膜厚计算公式
半导体工艺与研发工程师：对照国标规范硅片表面膜厚的测量方法
质检与良率工程师：按国标建立膜厚检测与数据验收流程
实验室与检测机构：需要国标原文作为测量依据与比对基准
需要按国标测膜厚，或想确认膜厚仪是否符合国标要求？在线提交需求，或拨打 400-186-8882（上海 021-58381720），优尼康科技提供本地化技术支持与免费测样。
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