HORIBA Auto SE 是一键式全自动快速光谱椭偏仪，由优尼康科技代理供应。仪器采用液晶调制技术，光路中无机械转动部件，重复性与信噪比高；自动 XYZ 样品台与 MyAutoView 光斑可视系统可在几秒内完成样品测量并输出完整的薄膜特性分析报告，包括膜厚、光学常数（n,k）、表面粗糙度与膜层不均匀性。适合研发与器件质量控制的快速薄膜测量场景。
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 光谱范围 | 440–1000 nm |
| 入射角 | 70° 固定（可选 66° / 61.5°） |
| 微光斑尺寸 | 7 档自动切换：500×500 / 250×500 / 250×250 / 70×250 / 100×100 / 50×60 / 25×60 µm（最小 25×60 µm） |
| 样品台 | 自动 XYZ，兼容 200 mm × 200 mm，真空吸附，Z 向行程 > 35 mm |
| 测量时间 | < 2 s（典型 5 s） |
| 膜厚准确度 | NIST 100 nm：± 4 Å |
| 折射率准确度 | n(632.8 nm)：± 0.002 |
| 重复性 | NIST 15 nm：± 0.2 Å |
| 探测器 | CCD，光谱分辨率 2 nm |
| 光斑可视 | MyAutoView 实时成像，视场 1.33 × 1 mm |
| 软件 | DeltaPsi2（Auto-Soft 一键式界面） |
| 调制方式 | 液晶调制（无机械转动部件） |
椭偏仪基于线偏振光经薄膜样品反射后偏振态（Ψ、Δ）的变化，通过模型拟合反演膜厚与光学常数（n,k）。Auto SE 集成液晶调制与反射式微光斑，全谱段覆盖，利于非均匀与图案化样品测试；自动 Mapping 扫描可评估镀膜均匀性。软件支持常规预设配方与高级建模，并可将设置保存为自动流程。
半导体与微电子：氧化硅 / 氮化硅工艺膜层厚度与光学常数表征
显示与光电：OLED 功能层、偏光片补偿膜、ITO 导电层厚度测量
光学镀膜：增透膜、分光膜折射率与膜厚校准
量产质控：来料抽检、镀膜均匀性 Mapping 与工艺波动监控
需要样品测试或量测方案咨询？在线提交需求，或拨打 400-186-8882（上海 021-58381720），优尼康科技提供本地化技术支持与免费测样。
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