J.A. Woollam alpha 2.0 是一款紧凑型台式光谱椭偏仪，由优尼康科技代理供应，用于薄膜厚度与折射率的常规测量。仪器采用双旋转光学设计，由 CCD 探测器同步采集 190 个波长点，覆盖 400-1000nm，全光谱典型采集时间 5-10 秒；入射角支持 65°、70°、75° 手动调节，并提供 90° 直通测量位置。测量过程同步获取退偏信息，可校正玻璃等透明基底背面的回光。可测膜厚从超薄单分子层到数微米，机身紧凑，通过 USB 与电脑连接，适合实验室与产线的常规检测工位。
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 仪器类型 | 双旋转台式光谱椭偏仪 |
| 光谱范围 | 400-1000 nm |
| 同步波长点数 | 190 |
| 入射角 | 65°、70°、75° 手动调节；90° 直通 |
| 数据采集时间 | 全光谱典型 5-10 秒 |
| 光源 / 探测器 | 石英钨卤素灯（QTH）/ CCD |
| 光束直径 | 聚焦后小于 1 mm |
| 样品直径上限 | 200 mm |
| 基底厚度上限 | 11 mm（65°）、16 mm（70°）、21 mm（75°） |
| 可测膜厚范围 | 超薄单分子层至数微米 |
| 典型重复性 | 硅片自然氧化层或热氧化层连续测量 30 次，厚度标准偏差小于 0.01 nm |
| 可测量的量 | 椭圆偏振参数 Ψ 与 Δ、透射率与反射率、退偏率、穆勒矩阵的 11 个归一化元素 |
| 软件 | CompleteEASE（含 Lorentz、Gaussian、Drude、Tauc-Lorentz、B-Spline 等色散模型） |
| 电源 | 100/240 VAC，47-63 Hz，小于 1 A |
椭偏测量的基本原理是偏振光经样品反射后偏振态发生变化，通过解析出射光的偏振状态反演膜层厚度与光学常数。alpha 2.0 采用双旋转（Dual-Rotation）设计，光源端为旋转补偿器、探测器端为旋转分析器，在一次光学周期内完成测量；CCD 探测器一次采集 190 个波长点，覆盖 400-1000nm。入射角可在 65°、70°、75° 三档之间手动切换，也可在 90° 直通位置测量空光束以确认系统状态。系统同时给出退偏信息，基底透明时可用于校正来自基底背面的回光。数据采集、数据分析与光学模拟均在 CompleteEASE 平台完成。
透明薄膜：硅片或玻璃基底上氧化硅、氮化硅等单层介质膜的厚度与折射率常规检测
自组装单分子层：10nm 以下极薄膜的测量与批次之间比对
吸收薄膜：非晶硅、多晶硅、类金刚石碳、碳化硅与有机膜层的厚度与光学常数拟合
玻璃基底镀膜：玻璃基底增透膜与功能涂层，通过退偏信息校正背面回光
显示与有机电子：OLED 膜层、显示滤色片与光刻胶膜层的厚度测量
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