J.A. Woollam M-2000 是一款旋转补偿式光谱椭偏仪（RCE），由优尼康科技代理供应。仪器采用旋转补偿器结构配合 CCD 探测器，单次测量同步采集 700 个以上波长点，数据采集速率每秒 20 次，全光谱典型测量时间 0.5 至 5 秒。光谱范围覆盖 193-1690nm（视配置），可测量亚纳米至数十微米的透明薄膜，并提供台式离线与腔室原位两种形态，适配常规薄膜表征与在线工艺监测。
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 仪器类型 | 旋转补偿式光谱椭偏仪（RCE） |
| 光谱范围 | 193-1690 nm（视配置） |
| 单次同步波长数 | 700 个以上 |
| 数据采集速率 | 每秒 20 次；全光谱典型测量时间 0.5-5 秒 |
| 膜厚测量范围 | 亚纳米至数十微米（透明薄膜） |
| 入射角 | 固定 65°；水平自动变角 45°-90°；垂直自动变角 20°-90° |
| 聚焦光斑 | X 型可小至 120 μm；D、U 型 300 μm |
| 变温测量 | Linkam 温度台 -70 至 600 ℃；低温与高温台 4.2 K 至 1000 ℃ |
| Mapping | 可配 300 mm 自动 Mapping 台；支持 1.1 × 1.3 m 面板扫描 |
| 电源 | 100 / 110 / 220 / 240 VAC，50-60 Hz |
| 软件 | CompleteEASE（含孔隙率分析模块） |
M-2000 基于旋转补偿器椭偏法，补偿器旋转调制偏振光，CCD 探测器一次同时测量全部波长点，因此兼顾速度与光谱覆盖。数据分析在 CompleteEASE 平台完成，内置多层膜、渐变折射率、粗糙界面与各向异性等拟合模型，并提供基于 Lorentz-Lorenz 或 Bruggeman 有效介质近似的孔隙率分析模块。
半导体薄膜：栅介质、高 k 介质与化合物半导体外延层的厚度与光学常数
显示与光伏：透明导电氧化物、非晶与纳米晶硅层、抗反射涂层的产线监控
光学镀膜：增透膜、高反膜、滤光片的膜厚与折射率质检
原位工艺监控：MBE、ALD、PECVD、MOCVD、溅射与电子束蒸发过程实时监控
大面积 Mapping：面板级膜厚均匀性扫描与材料光学常数建档
需要样品测试或量测方案咨询？在线提交需求，或拨打 400-186-8882（上海 021-58381720），优尼康科技提供本地化技术支持与免费测样。
优尼康公众号
售后服务支持
