J.A. Woollam theta-SE 晶圆 Mapping 椭偏仪 产品手册

简要说明 :
J.A. Woollam theta-SE 台式光谱椭偏仪手册,内置 300mm 测量台,一键完成膜厚与折射率全片分布测量,采集快至 0.3 秒,面向晶圆均匀性检测。
文件版本 :
V1.0.1
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产品简介

J.A. Woollam theta-SE 是一款内置晶圆 Mapping 测量台的台式光谱椭偏仪,由优尼康科技代理供应。仪器采用双旋转光学设计,光谱范围 400-1000nm,同步采集 190 个波长点,单次采集可快至 0.3 秒。内置 300mm 测量台配合快速相机对准与统一测量处方,可一键完成整片晶圆的膜厚与折射率分布测量,并自动生成报告,适合来料检验、工艺均匀性评价与量产抽检场景。

核心参数

参数规格
仪器类型双旋转台式光谱椭偏仪
光谱范围400-1000 nm
同步波长点数190
数据采集时间可快至 0.3 秒;典型 1-2 秒
入射角65° 固定角
标称光斑尺寸250 × 600 μm(在样品上)
可测晶圆直径300 mm
探测与对准CCD 探测;快速相机对准(机器视觉与图像识别)
测量数据类型SE,以及 g-SE、MM-SE
软件CompleteEASE(含表面均匀性测量、扫描图形编辑与报告生成)

测量原理与说明

theta-SE 基于双旋转椭偏设计,通过旋转元件调制偏振光并解析反射光偏振态变化,反演膜层厚度与光学常数。测量处方统一描述数据采集、测量位置与数据分析,配合 CompleteEASE 的表面均匀性测量功能,可在晶圆上按指定图形逐点采集并输出全片分布结果。

典型应用

  • 来料与出厂检验:氧化硅、氮化硅等介质薄膜的整片厚度确认

  • 工艺均匀性评价:涂布与沉积工艺后的膜厚与折射率分布验收

  • 设备维护确认:设备保养或换件后的工艺状态复核

  • 量产批次抽检:光刻胶、碳膜与硬掩模材料的批次一致性检查

  • 边缘区域评价:包含靠近晶圆边缘区域的膜层分布测量

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