HORIBA UVISEL Plus 光谱椭偏仪 产品手册

简要说明 :
HORIBA UVISEL Plus 光谱椭偏仪手册,相位调制椭偏测膜厚与光学常数,190~2100nm、1Å~50μm,面向薄膜光学表征。
文件版本 :
V1.0.1
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产品简介

HORIBA UVISEL Plus 是一款相位调制型光谱椭偏仪,由优尼康科技代理供应。仪器采用 50kHz PEM 相位调制,光路无机械转动部件,重复性与信噪比高,光谱范围 190-2100nm,膜厚测量范围 1Å-50μm,Ψ/Δ 准确度 ±0.01°,适合超薄膜到厚膜的光学常数(n、k)精确表征。

核心参数

参数规格
仪器类型相位调制型椭圆偏振光谱仪(PEM)
PEM 调制频率50kHz
光谱范围190-885nm(NIR 版至 2100nm)
膜厚测量范围1Å-50μm
准确度Ψ/Δ ±0.01°
重复性厚度约 ±0.1%,折射率约 ±0.0001
变角范围40°-90°(步进 0.01°)
微光斑50μm / 100μm / 1mm(可选)
光源75W 氙灯

测量原理与软件

UVISEL Plus 基于相位调制椭偏法,利用 50kHz PEM 调制偏振光,测量薄膜反射后偏振态(Ψ、Δ)的变化,经模型拟合反演膜厚与光学常数(n、k)。相位调制无机械转动部件,重复性高,FastAcq 双调制采集全谱最快 3 分钟。

典型应用

  • 半导体:栅介质、高k/低k介质超薄膜厚度与光学常数表征

  • 化合物半导体:III-V 族异质结厚度与组分标定

  • 光伏:减反射膜、钙钛矿层厚度与光学常数

  • 光学镀膜:增透膜、高反膜、滤光片 n、k 测定

  • 科研:沉积、固化等动态过程实时追踪

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