光刻胶-膜厚仪设备,光学轮廓仪,减震系统,精密薄膜测量解决方案,翌颖科技有限公司,优尼康科技官网-优尼康科技有限公司

光刻胶

优尼康科技提供光刻胶全流程表征方案：膜厚仪(F20/F40/F50/F54)、椭偏仪(FS-8/Uvisel Plus)、光学轮廓仪(Profilm3D)、纳米压痕仪(G200X/imicro)、台阶仪、XRF、水滴角测量仪等。覆盖光刻胶膜厚测试、折射率n/k测量、台阶高度、粗糙度、力学性能与润湿性分析，适用于半导体光刻、MEMS、先进封装等领域。