优尼康科技提供薄膜材料开发全流程测量方案：膜厚仪(F20/F50)、椭偏仪(FS-8/Uvisel Plus)、光学轮廓仪(Profilm3D)、纳米压痕仪(G200X/iMicro)、台阶仪、XRF分析仪等。覆盖薄膜厚度、光学常数(n/k)、表面粗糙度、微纳力学性能、成分分析等关键参数，是大学实验室、科研机构薄膜材料研发的理想选择。
优尼康科技提供精密测量环境保障方案：主动减振台、被动减振台、消磁器等。用于光学轮廓仪、膜厚仪、椭偏仪、纳米压痕仪等高精度设备，隔离环境振动与杂散磁场干扰，保障测量精度与重复性，适用于半导体、光学、材料科学等领域的超精密测量实验室。
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