优尼康科技提供材料力学与摩擦学全流程测量方案：纳米压痕仪(G200X/iMicro)、光学轮廓仪(Profilm3D)、台阶仪等。覆盖硬度/弹性模量、断裂韧性、蠕变/松弛、涂层结合力、摩擦系数、磨损率、划痕硬度、磨损体积等关键参数，助力涂层、薄膜、块体材料、MEMS、医疗器械等领域的研究与质控。
优尼康科技提供锂电池全流程测量方案：膜厚仪(F20/F50)、光学轮廓仪(Profilm3D)、纳米压痕仪(G200X/iMicro)、台阶仪、电阻率仪等。覆盖正负极涂布厚度与均匀性、极片表面粗糙度、隔膜孔隙率、极片硬度/模量、极片电阻率、极耳焊接台阶等关键参数，助力锂电池研发与量产良率提升。
优尼康科技提供精密测量环境保障方案：主动减振台、被动减振台、消磁器等。用于光学轮廓仪、膜厚仪、椭偏仪、纳米压痕仪等高精度设备，隔离环境振动与杂散磁场干扰，保障测量精度与重复性，适用于半导体、光学、材料科学等领域的超精密测量实验室。
优尼康科技提供树脂领域全流程膜厚测量方案：Filmetrics F20/F50光学膜厚仪。覆盖树脂薄膜厚度、树脂涂层厚度、树脂基板厚度、功能膜/光学膜厚度等关键参数测量，非接触无损测量，助力树脂材料研发与量产质控。
优尼康科技提供半导体外延层全流程测量方案：膜厚仪(F20/F50/F54/F32)、椭偏仪(FS-8/UVISEL-PLUS/AUTO-SE/SMART-SE)、光学轮廓仪(Profilm3D/Zeta-20/Zeta-388)、纳米压痕仪(G200X/iMicro)、XRF分析仪(K/B系列)、台阶仪(D系列/P系列)、电阻率测量仪(R50/R54)等。覆盖Si/SiGe外延层厚度、SiC/GaN外延层厚度与翘曲、掺杂浓度/载流子浓度、Ge组分比例、表面粗糙度与形貌、晶圆翘曲与应力、表面颗粒与缺陷等关键参数，助力半导体外延工艺研发与量产良率提升。
优尼康科技提供汽车发动机总成与零部件全流程测量方案：光学轮廓仪(Profilm3D)、白光共聚焦(zeta-20/388)、膜厚仪(F20/F50/F10-HC)、纳米压痕仪(G200X/iMicro)、台阶仪(D500/D600/P系列)、XRF分析仪等。覆盖缸体/缸盖表面粗糙度、活塞环涂层厚度与附着力、曲轴轴颈波纹度、气门氮化层、轴承涂层硬度等关键参数，助力发动机效率、耐久性与NVH性能提升。
优尼康科技提供薄膜材料开发全流程测量方案：膜厚仪(F20/F50)、椭偏仪(FS-8/Uvisel Plus)、光学轮廓仪(Profilm3D)、纳米压痕仪(G200X/iMicro)、台阶仪、XRF分析仪等。覆盖薄膜厚度、光学常数(n/k)、表面粗糙度、微纳力学性能、成分分析等关键参数，是大学实验室、科研机构薄膜材料研发的理想选择。
优尼康专注 SiC、GaN 等宽禁带半导体测量，提供 F54-XY 膜厚仪、R54 电阻率仪、Uvisel Plus 椭偏仪等设备，解决外延生长与工艺监控难题。
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