光学膜厚仪是基于光反射干涉原理的精密测量设备，通过分析薄膜上下表面反射光的干涉光谱，精确计算薄膜厚度、折射率、反射率等关键参数。其非接触式测量特性，使其成为光刻胶、ITO导电膜、派瑞林涂层等脆弱或敏感材料测量的首选设备。优尼康科技有限公司作为Filmetrics光学膜厚仪中国区总代理，提供的F20系列光学膜厚仪覆盖从1nm至3mm的全量程测量范围，垂直分辨率最低可达0.02nm。Filmetrics F20光学膜厚仪采用模块化设计，仅需通过USB连接电脑，几分钟即可完成安装，配置完成后数秒内即可获得测量结果。
F20系列光学膜厚仪可测量的薄膜特性包括厚度、反射率、透射率、光学常数、均匀性、刻蚀量等；薄膜种类覆盖透明及半透明薄膜，常见如氧化物、聚合物甚至空气薄膜；薄膜状态涵盖固态、液态和气态；薄膜结构支持单层膜和多层膜、平面和曲面。
F20系列光学膜厚仪的光源为卤素灯，波长范围为380-1050nm。不同型号覆盖不同的厚度区间：F20-UV型号厚度测量范围为1nm-40μm，准确度为1nm或测量厚度的0.2%中取大值；F20-XT型号可扩展至0.2μm-450μm；常规F20型号测量范围为15nm-70μm。全系列光学膜厚仪测量精度最低为0.02nm，稳定性最低为0.05nm。标准配置下光斑大小为1.5mm，通过选配小光斑组件最小可缩至20μm。样品台适配1mm至300mm的样品，支持平面与弯曲表面。
光学膜厚仪F20系列的应用覆盖半导体制造、先进封装、新材料研发、新型显示技术、生物医学及新能源等多个前沿行业。在半导体领域，可测量SiNx、TiO2、光刻胶等多种薄膜；在显示技术领域，适用于OLED、ITO和TCOs等透明导电薄膜的厚度表征；在消费电子领域，可用于铝制外壳阳极膜、防水涂层等厚度检测；在光伏领域，可测量太阳能电池相关膜层；在生物医学领域，适用于医疗器械表面涂层的无损测量。
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