优尼康科技提供的光学膜厚仪，基于光谱反射干涉原理实现纳米级薄膜厚度测量。该光学膜厚仪通过分析入射光在不同物质界面反射后产生的干涉光谱震荡频率，精确计算薄膜厚度——光谱震荡越多，代表薄膜厚度越大。优尼康光学膜厚仪可同时获得折射率、反射率、透射率及粗糙度等光学常数信息。
在半导体制造过程中，光刻胶厚度的均匀性直接影响图形转移的精度与良率。优尼康光学膜厚仪能够对光刻胶薄膜进行快速、非接触式测量，垂直分辨率达纳米级。以F20-UV/UVX型号为例，该光学膜厚仪测量准确度最高可达1nm或0.2%，精度最低为0.02nm，稳定性不低于0.05nm。F20系列光学膜厚仪波长范围380-1050nm，配备卤素灯光源，光斑大小1.5mm，样品台适配1mm至300mm样品。
在半导体氧化工艺与介电层沉积环节，薄膜厚度的精确控制是保障器件电学性能的关键。优尼康光学膜厚仪可测量氧化硅、氮化硅等多种氧化物及介电层薄膜。F50系列光学膜厚仪支持自动Mapping多点测量并生成厚度分布图，采用r-θ极坐标移动平台，测量速度约每秒2点，可快速获得直径450mm样品的薄膜厚度分布图。测绘结果支持2D或3D呈现，便于从多角度检视厚度均匀性。
在显示技术与光伏领域，ITO（氧化铟锡）及TCOs（透明导电氧化物）薄膜的光电性能与厚度密切相关。优尼康光学膜厚仪可对这类透明导电薄膜进行精确厚度测量与光学常数分析。F50-UV型号光学膜厚仪波长覆盖190nm-1340nm，厚度测量范围5nm至40μm，可满足从实验室研发到量产检测的多层次需求。光斑标准1.5mm，最小可达10μm（F50-s1310型号），样品最大直径450mm。
优尼康光学膜厚仪的适用范围远不止于半导体领域。该光学膜厚仪可测量的薄膜类型涵盖氧化物、聚合物、光刻胶、ITO、磁性材料等。在固态、液态乃至气态薄膜状态下均可完成测量；单层膜与多层膜结构、平面与曲面样品均可适配，光斑最小可达20微米。
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