新闻资讯

共聚焦轮廓仪性能如何精准测膜厚？

在半导体、精密光学和显示面板制造领域，膜厚控制是决定产品良率的核心环节。随着制程工艺不断向微纳尺度推进，传统接触式测量方式已难以满足高精度、非破坏性的检测需求。共聚焦轮廓仪性能的突破，为这一难题提供了可靠的解决方案。基于共聚焦光学原理的测量技术，通过精准捕获样品表面反射信号，能够实现对透明薄膜、金属镀层及多层结构厚度的纳米级测量。本文将深入探讨共聚焦轮廓仪在膜厚测量中的技术原理、关键性能指标及实际应用表现。