膜厚仪应用-优尼康科技

硅 vs 砷化镓 vs 磷化铟三大半导体材料对比

一文看懂Si/GaAs/InP的带隙类型、电子迁移率、应用场景差异。硅间接带隙无法发光，GaAs仅适配850nm短距，InP覆盖1310/1550nm通信窗口。附三种材料性能对比表。

2026-07-20 优尼康

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全球磷化铟衬底市场供需失衡，产业链加速扩产

2026年全球磷化铟（InP）衬底需求超260万片，有效产能仅75万片，缺口超70%。JX金属投资1200亿日元扩产，英伟达战略投资Coherent。国内云南锗业、先导科技加速6英寸衬底量产。详细分析磷化铟产业链供需格局与国产替代机遇。

2026-07-20 优尼康

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FILMETRICS膜厚仪--光电子集成芯片技术中的应用

光电子集成芯片技术包含光电子芯片外延生长、光电子芯片设计与制作、光电子芯片的工艺开发及封装等等。特别是在制作光电子集成芯片的工艺过程中，需要严密控制SiOx，SiNx等膜层的厚度，以求达到工艺效果。FilmetricsF20 白光干涉膜厚测量仪作为一款精度高、测试速度快、操作简便的高性能设备，可以很方便快速的测量这些膜层厚度。

2025-06-09 admin

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Parylene（派瑞林）涂层厚度测量实际应用案例

由于 Parylene 涂层的性能特性是和它的涂层厚度息息相关，所以在Parylene 涂层“生长”过程中，涂层厚度是需要严格控制，并需要实时监测。

由于 Parylene 涂层“生长”在产品表面，某些对产品外观有要求的应用对涂层的透射率也是有严格要求的。所以也需要专用的设备进行质量控制和生产监测。

2025-06-09 admin

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多层膜堆叠厚度难控制？光学膜厚仪应用在工业现场解决这一难题

在现代光电、半导体及精密光学领域，单一薄膜已难以满足复杂的功能需求，多层膜堆叠成为常态。然而，每一层膜的厚度、均匀性以及层间界面的控制，都是对测量技术的严苛挑战。光学膜厚仪应用在工业现场进行多层膜分析，已成为确保器件性能的核心手段。优尼康科技有限公司（翌颖科技）作为专业的薄膜测量解决方案提供商，其光学膜厚仪产品在多层膜堆叠分析中展现了实用价值。本文将深入探讨其工作原理与典型工业应用。

2026-04-22 优尼康-MKT

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