KLA Zeta-20 白光共聚焦显微镜

优尼康科技提供的KLA Zeta-20台式光学轮廓仪，是一款非接触式3D表面形貌测量系统。采用ZDot技术及多模式光学组件，可同时采集高分辨率3D形貌信息和样品表面真彩色图像。系统集成六种不同的光学量测技术，可对各种样品进行测量：透明与不透明、低反射率与高反射率、光滑表面与粗糙纹理，台阶高度测量范围从纳米级至毫米级。可提供台阶高度、表面粗糙度（光滑表面亚纳米级粗糙度至粗糙表面数百微米粗糙度）、薄膜应力、样品翘曲、透明薄膜厚度（30nm至100μm）等多项参数测量，并具备自动缺陷检测功能（可捕获大于1μm的缺陷），支持多点量测和图形识别的全自动测量。适用于半导体和化合物半导体、太阳能光伏电池、MEMS微机电系统、晶圆级封装（WLCSP/FOWLP）、PCB和柔性电路板、医疗器械和微流体器件、数据存储、大学及研究实验室等行业。优尼康科技提供专业技术支持。

产品名称：白光共聚焦显微镜

品牌： KLA

产品型号： Zeta-20

产地：美国

KLA Zeta-20 白光共聚焦显微镜

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KLA Zeta-20 白光共聚焦显微镜产品介绍：

KLA Zeta-20白光共聚焦显微镜基于ZDot技术而来。Zeta-20 白光共聚焦显微镜可以对大部分材料和结构进行成像分析，从光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介质。KLA Zeta-20白光共聚焦显微镜使用模块化设计理念，为用户提供了一系列的硬件和软件选项来满足各种不同的测量需求，所有硬件安装和操作都简单易用。

KLA Zeta-20 白光共聚焦显微镜产品特点：

Zeta-20 白光共聚焦显微镜提供多种光学测试技术，以满足用户各种不同领域的测试需求。
ZDotZ点阵三维成像技术是Zeta所有系列产品的标配技术，Z点阵独特的明暗场照明方案结合不同物镜帮助客户测量“困难”的表面。
ZIC干涉反衬成像技术，实现纳米级粗糙度表面的成像及分析。
ZSI白光差分干涉技术，垂直方向分辨率可达埃级。
ZI 白光干涉技术，大视场下纳米级高度的理想测量技术。
ZFT反射光谱膜厚分析技术，集成宽频反射光谱分析仪，可测量ULA+ 2et-20薄膜材料的厚度、折射率和反射率。

KLA Zeta-20 白光共聚焦显微镜产品优势：

重复性和再现性
接触式测量，适用于多种材料
测量软材料的微力控制
梯形失真校正可大幅度减少侧视图造成的失真
弧形校正补偿探针的弧形运动

KLA Zeta-20 白光共聚焦显微镜产品测量原理：

KLA Zeta-20 白光共聚焦显微镜的原理是通过共聚焦原理实现样品的高分辨率、高对比度的光学切片能力。它结合了传统光学显微镜和激光共聚焦显微镜的特点，利用宽谱白光作为光源，通过空间滤波机制消除离焦光干扰，从而获得高精度的三维图像。

KLA Zeta-20 白光共聚焦显微镜主要应用：

台阶高度	纹理
外形	应力
薄膜厚度	缺陷检测

KLA Zeta-20 白光共聚焦显微镜产品参数：

	ZDOT	ZI	ZIC	ZSI	ZFT
粗糙度：> 40nm	●
粗糙度：<40nm			●
大视场、Z方向高分辨率		●
15nm-25mm台阶高度	●
5nm-100µm台阶高度		●
<10nm 台阶高度				●
缺陷：尺寸 <1µm，高度 <75nm			●	●	●
缺陷：尺寸 >1µm，高度 >75nm				●
30nm<薄膜和厚度 <15µm
薄膜厚度 >15µm	●