Filmetrics-F40 薄膜厚度测量仪

优尼康科技提供的Filmetrics F40光学膜厚测量仪，采用光谱反射法，通过C-mount标准接口集成至现有显微镜，测量光斑可小至1μm，适用于带图案、弯曲及非均匀样品的微区薄膜厚度测量。F40系列提供多种配置选择：标准F40（20nm–40μm，400–850nm）、F40-EXR（20nm–120μm，400–1700nm）、F40-NIR（40nm–120μm，950–1700nm）、F40-UV（4nm–40μm，190–1100nm）及F40-UVX（4nm–120μm，190–1700nm），覆盖紫外至近红外波段。内置集成式实时彩色摄像机，测量点精准可视，数秒内即可完成膜厚、折射率（n、k值）及反射率测量。配套FILMeasure软件内置130+种材料库，支持单层及多层膜分析，可选配电动自动对焦、XY电动平台等附件。广泛应用于半导体制造（光刻胶、氧化物/氮化物、多晶硅）、LCD/OLED显示（液晶间隙、聚酰亚胺、ITO透明导电膜）、MEMS微机电系统、IC故障分析、生物医学涂层（导管/支架涂层、派瑞林）、多孔硅薄膜等行业。优尼康科技提供专业技术支持。

产品名称：薄膜厚度测量仪-膜厚仪

品牌： Filmetrics

产品型号： F40

产地：美国

Filmetrics F40 薄膜厚度测量仪

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优尼康科技提供的Filmetrics F40光学膜厚测量仪，采用光谱反射法，通过C-mount标准接口集成至现有显微镜，测量光斑可小至1μm，适用于带图案、弯曲及非均匀样品的微区薄膜厚度测量。F40系列提供多种配置选择：标准F40（20nm–40μm，400–850nm）、F40-EXR（20nm–120μm，400–1700nm）、F40-NIR（40nm–120μm，950–1700nm）、F40-UV（4nm–40μm，190–1100nm）及F40-UVX（4nm–120μm，190–1700nm），覆盖紫外至近红外波段。内置集成式实时彩色摄像机，测量点精准可视，数秒内即可完成膜厚、折射率（n、k值）及反射率测量。配套FILMeasure软件内置130+种材料库，支持单层及多层膜分析，可选配电动自动对焦、XY电动平台等附件。广泛应用于半导体制造（光刻胶、氧化物/氮化物、多晶硅）、LCD/OLED显示（液晶间隙、聚酰亚胺、ITO透明导电膜）、MEMS微机电系统、IC故障分析、生物医学涂层（导管/支架涂层、派瑞林）、多孔硅薄膜等行业。优尼康科技提供专业技术支持。

Filmetrics F40 薄膜厚度测量仪产品介绍：

Filmetrics F40 薄膜厚度测量仪的光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，可以使用Filmetrics F40 薄膜厚度测量仪。使用先校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，Filmetrics F40 薄膜厚度测量仪就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。

Filmetrics F40 薄膜厚度测量仪产品特点优势：

结合显微镜的膜厚测量系统，光斑小至一微米的测量精度；
匹配市面多数的显微镜连接使用；
清晰且直观地观察样品并确认测量位置；

Filmetrics F40 薄膜厚度测量仪测量原理：

当入射光穿透不同物质的界面时将会有部分的光被反射，由于光的波动性导致从多个界面的反射光彼此干涉，从而使反射光的多波长光谱产生震荡的现象。从光谱的震荡频率，可以判断不同界面的距离进而得到材料的厚度（越多的震荡代表越大的厚度），同时也能得到其他的材料特性如折射率与粗糙度。

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Filmetrics F40 薄膜厚度测量仪产品应用与膜层范例：

薄膜特性：厚度、反射率、透射率、光学常数、均匀性、刻蚀量等
薄膜种类：透明及半透明薄膜，常见如氧化物、聚合物甚至空气
薄膜状态：固态、液态和气态薄膜都可以测量
薄膜结构：单层膜、多层膜；平面、曲面

Filmetrics F40 薄膜厚度测量仪产品常见工业应用：

半导体制造	生物医学元件	MEMS微机电系统	LCD液晶显示器
光刻胶	聚合物	光刻胶	盒厚
氧化物/氮化物	聚对二甲苯	硅膜	聚酰亚胺
硅	生物膜/气泡墙厚度	氮化铝	ITO导电透明膜
半导体膜层	植入药物涂层	氧化锌薄膜滤镜

Filmetrics F40 薄膜厚度测量仪产品参数：

波长范围：	190nm-1690nm	光源：	内部显微镜光源
测量nk值最小厚度	50nm	测量精度：	0.02nm
稳定性：	0.05nm	准确度*：取较大者	50nm
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