Filmetrics F20 光学膜厚仪 | 优尼康科技Filmetrics F20 光学膜厚仪
高精度桌上型薄膜厚度测量系统 | 1秒非接触测量 | 1nm~3mm | 500+材料数据库
产品介绍
业界畅销的台式薄膜厚度测量仪，非接触、高精度、即装即用
Filmetrics F20 光学膜厚仪是业界畅销的台式薄膜厚度测量仪，作为一款高性能的非接触式膜厚仪，它能在数秒内精准测定薄膜厚度、光学常数（n和k值）以及反射率、透过率。仅需通过USB连接电脑，几分钟即可完成安装，F20是半导体膜厚测量、显示技术、光学镀膜、光通信器件和生物医疗等领域的理想光学膜厚测量系统。
F20 采用光反射干涉原理，通过分析薄膜上下表面反射光的干涉光谱来计算膜层厚度和光学常数，单次测量时间不到1秒，测量精度达到0.02nm（埃级分辨率），准确度为1nm或测量厚度的0.2%中取大值。系统内置超过500种薄膜材料的专业数据库，涵盖SiO₂、SiNx、非晶硅、多晶硅、ITO、光刻胶、聚合物、Ⅲ-Ⅴ族化合物等常用材料，无需手动建模即可快速启动测量。
F20 系列提供六种型号：
F20-UV（190~1100nm）、F20（380~1050nm）、F20-EXR（380~1700nm）、F20-NIR（950~1700nm）、F20-XT（1440~1690nm）、F20-UVX（190~1700nm）。
从超薄膜到厚膜、从紫外到近红外全面覆盖。配套的 FILMeasure 软件界面直观，一键完成测量并自动拟合多层膜结构，支持单层膜和多达10层以上堆叠膜的同步分析，同时输出折射率（n）、消光系数（k）等光学常数。USB连接即装即用，无需专业培训，是研发实验室和产线快速检测的首选膜厚测量方案。
✓ 行业验证Filmetrics F20 自推出以来已累计发货数千台，曾获 Photonics Spectra "Circle of Excellence" 大奖，被评为全球25大技术创新型光电产品之一。二十余年持续迭代，是全球实验室使用广泛的台式膜厚测量系统之一，也是众多半导体、光电、光通信企业首选的薄膜厚度测量仪。
核心优势
非接触无损测量真正的非接触式膜厚测量，避免损伤薄膜。特别适用于光刻胶、生物涂层、InP外延片等脆弱或敏感材料。
多型号灵活配置F20-UV、F20、F20-EXR、F20-NIR、F20-XT、F20-UVX六种型号，波长覆盖190~1700nm，灵活适配不同材料和厚度范围。
500+材料数据库内置超过500种薄膜材料的专业数据库，涵盖半导体材料、光学镀层、聚合物、氧化物、氮化物、Ⅲ-Ⅴ族化合物，无需手动建模即可快速启动测量。
1秒快速测量单次测量时间不到1秒，实时显示膜厚及光学常数，高效满足研发和产线的快速检测需求。
埃级测量精度精度达0.02nm（埃级分辨率），准确度为1nm或测量厚度的0.2%中取大值，对超薄膜检测需求完全胜任。
简单易用免培训USB连接电脑即装即用，FILMeasure软件界面直观，一键完成测量，无需专业培训即可上手操作。
典型应用领域
半导体晶圆
显示面板(OLED)
光学镀膜
光通信DWDM
磷化铟(InP)器件
硅光集成
生物医疗涂层
光刻胶/派瑞林
透明导电膜(ITO)
Ⅲ-Ⅴ族化合物
封装胶/减薄
LED/激光器介质膜
测量原理
光反射干涉原理
入射光穿透薄膜层，在薄膜上下表面发生反射并产生干涉光谱，通过分析光谱震荡频率来计算薄膜厚度及光学常数（n和k值），1秒内即可获得结果，是典型的光学薄膜测厚方法。内置500多种材料数据库，无需手动建模即可快速启动测量。
产品参数
| 参数名称 | 规格 | 参数名称 | 规格 |
|---|
| 波长范围 | 380-1050nm（型号可选） | 光源 | 钨卤素灯、氘灯 |
| 厚度测量范围 | 15nm~70μm（视配置） | 测量精度 | 0.02nm |
| 准确度 | 1nm 或 0.2% 取大值 | 光斑大小 | 1.5mm（可选小至20μm） |
| 样品台尺寸 | 1mm~300mm | 内置材料库 | 500+种 |
型号选型
| 型号 | 厚度范围 | 波长范围 | 典型适用场景 |
|---|
| F20-UV | 1nm~40μm | 190~1100nm | 超薄膜(OLED、光刻胶) |
| F20 | 15nm~70μm | 380~1050nm | 通用型(半导体、聚合物) |
| F20-EXR | 15nm~250μm | 380~1700nm | 较厚膜层(光学镀膜) |
| F20-NIR | 100nm~250μm | 950~1700nm | 近红外波段膜层 |
| F20-XT | 0.2μm~450μm | 1440~1690nm | 厚膜测量(硅膜) |
| F20-UVX | 1nm~250μm | 190~1700nm | 全波段覆盖(光通信) |
产品应用详解
半导体膜厚测量F20广泛应用于SiNx、SiO₂、非晶硅、多晶硅、光刻胶等半导体薄膜的厚度和光学常数测量。非接触式设计避免晶圆损伤，是先进封装与芯片研发的关键膜厚检测工具。支持CVD/PVD/ALD等工艺后的膜层快速表征。
光通信与InP器件检测针对光通信行业，F20可精准测量DWDM滤光片的纳米级介质膜厚度、磷化铟(InP)激光器端面钝化层(SiO₂/SiNx)厚度、硅光集成器件的波导覆层厚度。F20-UVX全波段型号可覆盖从紫外到近红外的全部测量需求。
显示面板膜厚控制OLED器件中的有机发光层和传输层厚度直接影响发光效率和色彩表现。F20非接触快速测量方案支持OLED多层膜结构表征，助力新型显示技术研发和量产良率提升。
光学镀膜与生物医疗F20可对光学镜头减反膜、高反膜、滤光膜等精密镀层进行快速多点测量，评估镀膜均匀性。同时适用于生物芯片涂层、药物控释薄膜厚度检测。
光刻胶与聚合物薄膜F20可快速测量晶圆表面光刻胶膜厚，支持正胶、负胶、SU-8厚胶等多种类型。同时适用于派瑞林、聚酰亚胺等聚合物涂层的厚度表征。
透明导电膜与TCO测量针对ITO、AZO、FTO等透明导电氧化物薄膜，F20可同步测量膜厚和光学常数（n和k值），帮助评估导电性能与光学透过率的平衡。
实测数据展示
左图：F20单层膜干涉光谱实测数据 | 右图：多层膜厚度拟合曲线与光学常数(n/k)分析结果
客户评价
"之前用台阶仪每次都需要制样，非常耗时。换成F20膜厚仪后，非接触式测量节省了我们80%的前处理时间，0.02nm的精度对标我们的镀膜工艺完全够用。"
—— 某国内半导体材料厂商 工艺部
"Filmetrics F20是我们实验室使用最多的膜厚测量设备，500多种内置材料数据库基本覆盖了我们所有的日常研发需求。从OLED有机层到封装胶，一键测量，数据稳定可靠。"
—— 某显示面板企业研发中心
"我们使用F20-EXR对DWDM滤光片进行镀膜厚度监控，近红外波段测量结果非常准确。设备运行稳定，软件操作简单，产线人员经过简单培训即可独立操作。"
—— 某光通信器件制造商 生产部
常见问答
F20膜厚仪的测量原理是什么？+
F20采用光反射干涉原理进行非接触测量。入射光穿透薄膜层，在薄膜上下表面发生反射并产生干涉光谱，通过分析光谱震荡频率来计算薄膜厚度及光学常数（n和k值），1秒内即可获得结果，是典型的光学薄膜测厚方法。
F20可以测量哪些类型的薄膜？+
基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以使用F20测量，包括半导体材料（SiNx、非晶硅、InP、GaAs）、聚合物（SU-8光刻胶、派瑞林）、透明导电膜（ITO）、光学镀层（TiO₂、DLC）等。固态、液态和气态薄膜均可，单层膜和多层堆叠膜层同样适用。
F20的测量精度能达到多少？+
F20系列精密膜厚测量系统的精度可达0.02nm（埃级分辨率），准确度为1nm或测量厚度的0.2%中取大值，稳定性高达0.05nm。对于半导体、光通信、显示领域的超薄膜检测需求完全胜任。
F20有哪些型号可选？+
提供F20-UV(190-1100nm)、F20(380-1050nm)、F20-EXR(380-1700nm)、F20-NIR(950-1700nm)、F20-XT(1440-1690nm)、F20-UVX(190-1700nm)六种型号。从超薄膜到厚膜、从紫外到近红外，灵活适配不同材料和厚度范围。
F20膜厚仪安装复杂吗？需要专业人员吗？+
安装非常简单。只需将F20通过USB连接至运行Windows系统的电脑，几分钟内即可完成设置。配套的FILMeasure软件界面直观，无需专业培训即可上手操作。
F20在光通信行业有哪些典型应用？+
F20被广泛应用于DWDM滤光片纳米级介质膜厚度监控、磷化铟(InP)激光器端面钝化层(SiO₂/SiNx)测量、硅光集成器件波导覆层厚度表征等光通信关键工艺环节。F20-UVX全波段型号可覆盖从紫外到近红外的全部测量需求，是光通信器件研发和生产的理想测试方案。
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