Filmetrics F54 自动薄膜测量系统

优尼康科技 Filmetrics F54 高分辨率自动薄膜测量系统,放样即测、自动出图,最小光斑 2μm,支持 450mm 样品,适用于大面积膜厚均匀性分析。选型与样品测试咨询 400-186-8882。

  • 产品名称: 高分辨率自动薄膜测量系统
  • 品牌: Filmetrics
  • 产品型号: F54
  • 产地: 美国
  • 测量厚度范围: 4nm – 120μm(依配置)
  • 测量精度: 0.02nm
  • 波长范围: 190nm – 1700nm
  • 产品特点: 微区自动Mapping

Filmetrics F54 高分辨率自动薄膜测量系统

全自动Mapping膜厚仪 · 一键式薄膜厚度面形貌分析 · 4nm~120μm


Filmetrics F54 高分辨率自动薄膜测量系统产品外观
4nm~120μm
厚度测量范围
2μm
最小光斑尺寸
0.02nm
测量精度
450mm
最大样品直径

F54 高分辨率自动薄膜测量系统 产品介绍

面向大面积膜厚均匀性分析的全自动Mapping膜厚仪,放样即测,自动出图

Filmetrics F54 高分辨率自动薄膜测量系统是一款用于薄膜厚度面形貌分析的自动化光学膜厚仪。设备采用光谱反射法(白光干涉技术),以非接触方式测量薄膜厚度、折射率、反射率和表面粗糙度。五种配置覆盖4nm至120μm的膜厚测量范围,波长范围190~1700nm,最小光斑尺寸可达2μm,测量精度达0.02nm,适合从纳米级超薄膜到百微米级厚膜的薄膜厚度测量需求。

F54 配置电动R-Theta(极坐标)或XY自动载物台,按预设图案自动移动定位,最快每秒测量2个点位,支持直径达450mm的大尺寸样品。系统内建数十种极坐标、矩形、线性测绘模式,用户也可自定义测量点位,测量完成后实时呈现2D/3D膜厚分布图,直观反映样品表面的厚度分布与均匀性差异。

软件方面,F54 搭载 FILMeasure 测量平台,内置500+种材料库与高级建模算法,支持多层膜结构拟合、n/k光学常数提取、自定义色散模型与测量数据导出。整套流程从建立配方到输出报告可在数分钟内完成,适合研发实验室的工艺验证,也适合产线的批量膜厚均匀性抽检。

行业验证
Filmetrics F54 广泛应用于半导体晶圆制造、化合物半导体、LCD/OLED显示、光学涂层、MEMS、太阳能电池等领域,是薄膜厚度均匀性分析的理想工具。优尼康科技作为 KLA Filmetrics 中国区总代理,提供选型建议、免费测样与本地化技术支持。

核心优势

全自动Mapping测绘

电动R-Theta或XY载物台按预设图案自动定位,最快2点/秒,支持450mm大尺寸样品,无需人工逐点移动样品。

灵活测绘模式

内建数十种同心圆、矩形、线性测绘模式,用户可自定义无限数量的测量点,数分钟即可完成一套测量配方的建立。

2D/3D可视化分析

测量结果实时生成2D/3D膜厚分布图,可多视角检视厚度均匀性,支持数据导出与批次间对比分析。

宽范围高精度

4nm~120μm厚度测量范围,精度0.02nm,准确度为1nm或0.2%取较大者,五种配置覆盖超薄膜到厚膜的不同场景。

500+种材料库

内置500+种材料库并支持高级建模与自定义色散,可对多层膜结构进行拟合,同步输出各层厚度与n/k光学常数。

非接触无损测量

光谱反射法为非接触测量方式,不划伤、不污染样品表面,适用于光刻胶、有机层、生物医学涂层等敏感材料。

反射光谱法 测量原理

光谱反射法(白光干涉)
白光照射样品后,薄膜上下界面的反射光发生干涉,形成带有振荡特征的反射光谱。通过分析光谱的振荡频率即可计算膜层厚度,振荡越密集表示厚度越大,同时可获得折射率(n)、消光系数(k)和反射率等光学常数。F54在此基础上配备高精度光谱仪与自动载物台,把单点测量扩展为全自动多点Mapping,快速生成整片样品的厚度均匀性分布图。
光谱反射法薄膜厚度测量原理示意图

F54 高分辨率自动薄膜测量系统 技术参数

参数名称规格参数名称规格
型号F54(五种配置可选)品牌Filmetrics (KLA)
测量技术光谱反射法测量方式非接触式 / 自动Mapping
波长范围190nm – 1700nm光源钨卤素灯 / 氘灯
厚度范围4nm – 120μm(依配置)最小光斑2μm(高倍物镜)
测量精度0.02nm准确度1nm 或 0.2% 取较大者
稳定性0.05nm样品台类型R-Theta(极坐标)/ XY自动载物台
最大样品尺寸450mm直径测绘速度最快2点/秒
测绘模式同心圆、矩形、线性、自定义点阵
软件功能FILMeasure、2D/3D膜厚分布图、500+材料库、多层建模、数据导出
更多定制配置请联系优尼康科技

产品应用详解

半导体晶圆与光刻胶

用于晶圆表面光刻胶、介电层与氧化物薄膜的厚度分布测量。450mm样品能力可覆盖12英寸晶圆全片测绘,通过同心圆或点阵模式快速判断涂布与刻蚀工艺的边缘效应与径向均匀性。

化合物半导体与MEMS

针对化合物半导体外延片、MEMS微机电结构中的薄膜层,F54以非接触方式完成多点膜厚测量,2μm最小光斑可对微小区域或图形化位置定位测量,配合多层建模输出各层厚度。

OLED显示与ITO导电膜

OLED有机层、ITO/TCO透明导电膜以及LCD液晶间隙的厚度一致性直接影响器件性能。F54可对大面积面板样品自动测绘,同步给出厚度分布图与n/k光学常数,辅助工艺参数调整。

光学涂层与AR膜

用于镜片减反膜、滤光膜等光学涂层的膜厚均匀性评估。通过矩形或线性测绘模式在镀膜区域布点,可比较不同工位、不同批次的镀膜厚度差异,为镀膜设备调校提供数据。

太阳能电池与PVD/CVD薄膜

太阳能电池减反层、钝化层以及PVD/CVD工艺沉积的薄膜均可用F54进行大面积厚度测绘,快速识别腔体内沉积速率不均导致的厚度梯度。

功能涂层与防护膜

派瑞林涂层、生物医学涂层、防水涂层和阳极氧化膜等功能性薄膜,均可借助F54完成非接触厚度分布检测,避免接触式方法对涂层表面造成损伤。

实测数据展示

Filmetrics F54 全自动Mapping膜厚仪2D/3D膜厚分布实测图

典型2D/3D膜厚分布图,直观呈现样品表面的厚度均匀性

客户评价

"F54的全自动Mapping功能极大提升了我们晶圆厂光刻胶厚度均匀性的检测效率。可编程测量点和2D分布图让工艺调整变得非常直观。"

半导体晶圆制造厂 工艺集成部

"用于OLED面板的ITO和有机层厚度Mapping,速度快且精度高。支持450mm样品,完全满足我们大尺寸产线的需求。"

显示面板制造商 阵列工程部

F54 高分辨率自动薄膜测量系统 常见问题

F54可以测量多大尺寸的样品?+

F54支持直径达450mm的样品,可配置R-Theta(极坐标)或XY自动载物台,满足12英寸晶圆及大面积面板的薄膜厚度测量需求。样品放置后由载物台按预设图案自动定位,无需人工逐点移动。

测绘速度是多少?可以自定义测量点位吗?+

最快每秒可测量2个点位。系统支持数十种内建测绘模式(同心圆、矩形、线性),用户也可自定义无限数量的测量点,数分钟内即可建立一套测量配方并重复调用。

F54可以测量多层膜结构吗?+

可以。F54内置高级建模算法和500+种材料库,支持多层膜结构的厚度和折射率分析,可同时输出各层参数,并支持自定义色散模型以适配非常规材料。

F54最小可测光斑是多少?+

搭配高倍物镜时,最小光斑尺寸可达2μm,适用于微小区域或图形化样品的薄膜厚度测量。实际光斑大小随所选物镜配置变化,可根据样品结构尺寸选配。

F54的测量精度和准确度是多少?+

F54的测量精度为0.02nm,准确度为1nm或测量厚度的0.2%取较大者,稳定性为0.05nm。配合190~1700nm宽波段光谱与钨卤素灯、氘灯光源,可覆盖4nm至120μm的厚度测量范围。

F54与F20、F10系列有什么区别?+

F54是面向全自动Mapping的型号,配备自动载物台与测绘软件,适合大面积膜厚均匀性分析;F20为台式单点光学膜厚仪,适合研发与常规抽检;F10系列面向产线快速检测和特定涂层场景,如F10-HC硬涂层、F10-AR减反层。三者定位不同,可按样品尺寸与检测节拍选择。

免费样品测试服务

Free Sample Testing Service

不确定您的薄膜样品是否适合F54进行全自动Mapping测量?优尼康科技提供免费样品测试服务!您只需将样品寄送给我们,专业工程师将使用F54全自动Mapping膜厚仪为您进行薄膜厚度均匀性分析,并提供详细的测量报告和选型建议。也可以直接拨打测量咨询热线 400-186-8882。

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