Filmetrics F54-XYT-300 自动测量光学膜厚仪

Filmetrics F54-XYT-300 自动光学膜厚仪专为 300mm 晶圆全自动膜厚测绘设计,光谱反射覆盖 4nm~120μm,最快 2 点/秒。优尼康科技为 KLA Filmetrics 中国区总代理,咨询热线 400-186-8882,可预约样品测试。

  • 产品名称 自动测量光学膜厚仪
  • 品牌 Filmetrics
  • 产品型号 F54-XYT-300
  • 产地 美国
  • 测量厚度范围 4nm~120μm(视配置)
  • 测量精度 0.02nm
  • 波长范围 190nm ~ 1700nm(视配置)
  • 产品特点 300mm晶圆自动Mapping、图案识别
Filmetrics F54-XYT-300 300mm晶圆膜厚测绘仪 | 优尼康科技

Filmetrics F54-XYT-300 自动测量光学膜厚仪

300mm晶圆全自动膜厚测绘系统 | XY工作台+高性能R-Theta旋转台 | 光谱反射光学膜厚仪 | 最快2点/秒


Filmetrics F54-XYT-300 自动测量光学膜厚仪产品外观
4nm~120μm
厚度测量范围(依配置)
0.02nm
测量重复性
300mm
最大样品直径
2点/秒
测绘速度
2~100μm
光斑尺寸(依配置)
190-1700nm
波长范围(依配置)
产品介绍

300mm大尺寸晶圆全自动膜厚测绘系统,非接触、全自动、即装即用

Filmetrics F54-XYT-300 自动测量光学膜厚仪在 F54-XY-200 的基础上增加了高性能旋转样品台(R-Theta),专为 300mm 大尺寸晶圆的全自动膜厚测绘而设计。作为一款高性能的非接触式膜厚仪,它采用光谱反射技术,可测量带图案及无图案样品,五种配置覆盖膜厚 4nm 至 120μm,光斑尺寸 2μm 至 100μm,波长范围 190-1700nm。电动 XY 工作台结合高性能旋转台,自动移动到预选测量点,测量速度最高每秒 2 点,精度 1nm 或 0.2%,重复性 0.02nm,稳定性 0.05nm。配备集成式显微镜和实时摄像头,支持图案表面显微测量,适用于较粗糙材料。


F54-XYT-300 内置数十种极坐标、矩形、线性测绘图案,支持自定义无限制测量点阵,FILMapper 软件进一步提升测量自动化水平。系统适用于 300mm 半导体晶圆制造、化合物半导体、LCD/OLED 显示、光学涂层、MEMS 微机电系统、生物医学薄膜、光伏太阳能等行业的薄膜厚度测量与全自动膜厚均匀性检测,是研发实验室和产线快速检测的可靠光学膜厚测量方案。

行业验证
Filmetrics F54-XYT-300 由 KLA Instruments 出品,是 300mm 大尺寸晶圆全自动膜厚测绘的成熟方案。配备自动对焦与图案识别、实时视频影像及板载反射率标准片,已服务于众多半导体、显示与光通信企业的薄膜厚度测量产线。
核心优势
300mm晶圆全自动测绘

电动XY工作台结合高性能R-Theta旋转台,自动移动到预选测量点,实现300mm大尺寸晶圆的全自动膜厚分布测绘,是大型晶圆薄膜测厚的理想选择。

高速测绘能力

最快每秒测量 2 个点位,即使是大面积300mm晶圆也能在短时间内完成完整的厚度分布图绘制,提升产线检测效率。

宽量程高精度

五种波长配置覆盖 4nm 至 120μm 厚度范围,重复性 0.02nm,从超薄膜到厚膜全面覆盖,满足不同材料的光学膜厚仪测量需求。

带图案样品支持

集成自动对焦与图案识别功能,可精确测量带图案晶圆或器件的指定微区位置,对微结构薄膜同样适用。

实时影像与追溯

内置集成式摄像头提供实时影像,高级历史记录功能可保存、复现和绘制测量结果,便于工艺追溯与比对。

灵活的测绘模式

内置数十种极坐标、矩形、线性测绘图案,支持自定义无限制测量点阵,FILMapper软件让测量方案配置更自由。

适用薄膜类型
氧化物/氮化物
光刻胶/聚合物
ITO/TCO透明电极
光学镀层(TiO₂/SiO₂)
非晶硅/多晶硅
半导体薄膜
OLED有机层
硬涂层/增透膜
生物医学涂层
多层膜堆叠结构

* 适用于透明、半透明及低吸收系数薄膜,支持带图案和无图案样品

测量原理
光谱反射法(白光干涉)
F54-XYT-300 采用光谱反射法(白光干涉技术)。白光垂直照射到薄膜表面,在薄膜上下界面产生的反射光相互干涉,形成特征振荡光谱。通过分析光谱的振荡频率与振幅,可精确计算出薄膜厚度,同时还能获得折射率(n)、消光系数(k)等光学常数。结合电动 XY 工作台与高性能 R-Theta 旋转台,系统能在 300mm 晶圆上快速完成多点连续测量,构建完整的 2D/3D 膜厚分布图,是典型的薄膜测厚方法。
光谱反射法测量原理示意图
典型工业应用
行业典型应用与膜层
半导体制造300mm晶圆氧化层/氮化硅厚度测绘、光刻胶均匀性分析、非晶硅/多晶硅膜厚测量
化合物半导体GaAs、SiC 等化合物半导体薄膜厚度与均匀性检测
LCD/OLED显示ITO/TCO 薄膜面电阻关联厚度分析、液晶间隙、聚酰亚胺、OLED 有机层厚度测绘
光学镀层增透膜/高反膜多层膜厚控制、硬质涂层厚度、滤光片镀膜均匀性检测
MEMS微机电系统微结构薄膜厚度表征、器件关键膜层监控
光伏太阳能抗反射层厚度优化、TCO 电极层均匀性测绘
产品参数
参数名称规格参数名称规格
产品型号F54-XYT-300品牌Filmetrics (KLA)
测量技术光谱反射法(非接触)样品台类型电动XY工作台 + 高性能R-Theta旋转台
最大样品尺寸直径 300mm样品台行程200mm × 200mm (XY) + 旋转
厚度测量范围4nm ~ 120μm(依配置)测量重复性0.02nm
准确度1nm 或 0.2% 取较大者稳定性0.05nm
光斑尺寸2μm ~ 100μm(依配置)波长范围190nm ~ 1700nm(依配置)
测绘速度最快 2 点/秒测量功能厚度、折射率、反射率、吸收率、表面粗糙度
软件功能FILMapper软件、自动测绘模式(极坐标/矩形/线性/自定义)、2D/3D分布图、SPC、多层建模、历史记录
标配附件集成式光谱仪/光源模块、显微镜适配器、反射率标准片、实时摄像头
更多参数及定制配置请联系优尼康科技
F54-XY 系列选型指南
型号样品台类型最大样品厚度范围波长范围
F54-XY-200电动XY工作台200mm4nm~120μm190~1700nm
F54-XYT-300XY工作台 + R-Theta旋转台300mm4nm~120μm190~1700nm

F54-XYT-300 在 F54-XY-200 基础上增加高性能旋转样品台,专为300mm晶圆优化设计。不确定选哪个型号?联系工程师为您推荐 →

测量数据展示
F54-XYT-300 晶圆Mapping厚度分布图

F54-XYT-300 晶圆Mapping厚度分布图

F54-XYT-300 图案识别功能

F54-XYT-300 图案识别功能

客户评价

"F54-XYT-300 的 R-Theta 旋转台让我们在 300mm 晶圆的膜厚均匀性检测中实现了全自动测绘。设置好测量程序,系统自动完成全部点位测量并生成分布图,重复性 0.02nm,完全满足先进制程的管控要求。"

半导体晶圆代工厂 质量工程师

"用于 OLED 面板的 ITO 和有机层厚度测绘,F54-XYT-300 的图案识别功能可以精确定位到像素区域的测量点。2D/3D 厚度图非常直观,帮助我们快速定位工艺偏差并优化参数。"

显示面板制造商 工艺开发部
常见问答
F54-XYT-300 与 F54-XY-200 的主要区别是什么?+

F54-XYT-300 在 F54-XY-200 的基础上增加了高性能 R-Theta 旋转样品台,专为 300mm 大尺寸晶圆的全自动膜厚测绘而设计。F54-XY-200 采用纯电动 XY 工作台,最大支持 200mm 样品。

F54-XYT-300 最大可以测量多大尺寸的样品?+

F54-XYT-300 可支持直径达 300mm 的圆形晶圆样品。电动 XY 工作台行程为 200mm × 200mm,配合高性能旋转台实现全尺寸覆盖。

F54-XYT-300 可以测量带图案的样品吗?+

可以。F54-XYT-300 支持带图案和无图案样品的测量。系统配备自动对焦和图案识别软件,可精确定位到预设的微区测量点。

F54-XYT-300 的厚度测量范围是多少?+

取决于具体配置。F54-XY 系列提供五种波长配置,厚度范围从 4nm 至 120μm 不等。UV 配置适合超薄膜(4nm 起),NIR 和 EXR 配置适合较厚膜层(可达 120μm)。

F54-XYT-300 的软件支持哪些测绘模式?+

FILMapper 软件支持极坐标、矩形、线性等多种预设测绘模式,也支持用户自定义测量点,测量点数量不受限制。系统内置数十种标准测绘图案,可快速建立测量配方。

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标签: KLA Filmetrics

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