HORIBA UVISEL Plus 光谱椭偏仪

优尼康科技提供 HORIBA UVISEL Plus 相位调制型光谱椭偏仪,50kHz PEM 无运动部件,光谱 190–2100nm,膜厚覆盖 1Å 至 50μm。选型与样品测试咨询 400-186-8882。

  • 产品名称: 椭圆偏振光谱仪
  • 品牌: HORIBA
  • 产品型号: UVISEL Plus
  • 产地: 日本

HORIBA UVISEL Plus 光谱椭偏仪

相位调制型 50kHz PEM · 光谱 190–2100nm · 膜厚 1Å 至 50μm


HORIBA UVISEL Plus 光谱椭偏仪
50kHz
PEM 调制频率
190–2100nm
光谱范围
1Å–50μm
膜厚测量范围
±0.01°
Ψ/Δ 准确度

UVISEL Plus 光谱椭偏仪 产品介绍

研究级相位调制型椭圆偏振光谱仪,光路无运动部件,光谱范围覆盖 190–2100nm

HORIBA UVISEL Plus 是研究级相位调制型椭圆偏振光谱仪,采用 50kHz 高频 PEM(光弹性调制器)相位调制技术,测量光路中没有任何运动部件,长期稳定性高、维护简单。标准版光谱范围覆盖 190–885nm(FUV 至可见近红外),扩展版 UVISEL Plus NIR 可延伸至 2100nm,满足从超薄膜到厚膜、从紫外到近红外的连续测量需求。

膜厚测量范围从 1 埃(Å)至 50 微米(μm),既具备超薄膜所需的高灵敏度,也满足超厚膜所需的高光谱分辨率。FastAcq 双调制快速采集技术使测试灵敏度明显提升(据优尼康技术资料,灵敏度约为常规采集的 2 倍),毫秒级动态采集模式支持在线实时监测与工艺反馈。自动量角器变角范围 40°–90°、步进 0.01°;微光斑可选 50μm / 100μm / 1mm;探测器分别针对紫外、可见和近红外提供优化的 PMT 与 InGaAs(IGA)探测器。搭载 DeltaPsi2 与 AutoSoft 双软件界面,兼顾研究级用户的深度建模与非专业人士的一键操作。

行业验证
HORIBA UVISEL 系列 自推出以来,长期被全球高校、科研院所与半导体、显示、光伏企业用于薄膜表征与工艺研发。相位调制型光路无运动部件,结构稳定、重复性好,是椭偏测量领域应用广泛的机型之一。配套 DeltaPsi2 软件积累了大量应用模型与文献案例。优尼康科技作为 HORIBA 椭偏仪中国区代理,提供本地化的选型咨询、安装培训与售后技术支持。

核心优势

光路无运动部件

采用 50kHz 高频 PEM 相位调制,测量光路中无旋转或平移部件,长期稳定性高、抗震性好,适合产线长期监测。

宽光谱覆盖

标准版 190–885nm,NIR 扩展版至 2100nm,单次配置即可覆盖从紫外到近红外的薄膜与厚膜测量。

超宽膜厚范围

膜厚测量范围 1 埃至 50 微米,超薄膜与超厚膜均可通过同一台设备完成,无需更换硬件。

FastAcq 快速采集

双调制快速采集技术使灵敏度明显提升,全谱采集可在 3 分钟内完成,支持毫秒级动态在线监测。

高精度与高重复性

椭偏角准确度 Ψ/Δ ±0.01°,厚度重复性约 ±0.1%、折射率重复性约 ±0.0001,满足研发与质控要求。

双软件界面

DeltaPsi2 面向研究级深度建模,AutoSoft 面向产线与一键操作,同一数据可在两种模式下切换分析。

应用详解

应用领域椭偏测量场景典型测量对象
半导体制造栅介质、高k/低k介质等超薄膜的厚度与光学常数表征,对小于 10nm 薄膜的灵敏度高于多数反射法。SiO₂、HfO₂、SiNx、多晶硅、光刻胶
化合物半导体III-V 族(AlGaN/GaN)异质结厚度与光学色散测定,并可建立组分标定曲线。GaN、AlGaN、SiGe、II-VI、III-V 半导体
显示面板(OLED/TFT)完整叠层膜厚、光学性质与掺杂影响分析,适用于 OLED 叠层与 a-Si/LTPS TFT 表征。OLED 叠层、a-Si/LTPS TFT、ITO 透明电极
光伏太阳能减反射膜、钙钛矿吸收层的厚度与光学常数测定,支撑电池效率与稳定性优化。SiNx 减反射膜、钙钛矿 CH₃NH₃PbI₃、CIGS
光学镀膜增透膜、高反膜、滤光片等膜厚与折射率 n、k 测定,判断镀膜光学性能是否达到设计值。TiO₂、SiO₂、Ta₂O₅、MgF₂
有机半导体有机薄膜光学常数与各向异性表征,适用于有机半导体与聚合物功能层研究。有机半导体、聚合物、自组装单分子膜
铁电薄膜PZT/BST 等复杂铁电叠层厚度与光学常数表征,支持各向异性基底与粗糙层建模。PbZr₁₋ₓTiₓO₃、Ba₁₋ₓSrₓTiO₃
科研与在线监测动态过程(沉积、固化、吸附)实时追踪,测量数据可沉淀为材料光学常数库。沉积速率、固化曲线、吸附动力学

可测材料、结构与表征项目

UVISEL Plus 面向从简单到复杂的多种薄膜体系,可测量与表征的项目包括:

材料类型

介电薄膜、半导体(晶体/非晶/多晶)、有机物与高分子、超材料、各向异性材料、吸收膜、金属氧化物等。

结构类型

单层膜、多层堆叠膜、渐变折射率膜、粗糙界面、各向异性层、微结构表面等。

表征项目

厚度、折射率 n、消光系数 k、吸收系数、带隙、界面与粗糙度、各向异性轴、介电函数等。

典型场景

膜层质量评估、工艺窗口筛选、在线实时监测、材料光学常数数据库建立等。

光谱椭偏 测量原理

相位调制型椭偏法
入射偏振光经样品反射(或透射)后,其偏振态会随薄膜的厚度与光学常数发生改变。UVISEL Plus 在光路中放置 50kHz 高频 PEM 光弹性调制器,对光束的相位进行高频调制,再通过检偏器与探测器解析出椭偏角 Ψ(振幅比)和 Δ(相位差)。由于调制频率远高于环境振动与噪声,系统可获得很高的信噪比与稳定性,无需机械旋转部件即可完成全光谱椭偏测量。
椭偏仪测量原理

测量能力与表现

全光谱同步采集

一次测量获得 190–2100nm(视配置)整段光谱的 Ψ/Δ 数据,结合模型拟合即可得到厚度与光学常数。

宽膜厚自适应

从 1 埃超薄膜到 50 微米厚膜,通过光谱范围与模型选择自动适配,量程跨度大。

微区与变角

微光斑 50/100μm/1mm 适配小样品与局部区域;自动量角器 40°–90° 步进 0.01°,支持多角度建模。

动态在线监测

毫秒级动态采集模式可追踪薄膜生长、固化、吸附等随时间变化的过程,适用于工艺开发。

产品技术参数

参数名称规格参数名称规格
仪器类型相位调制型椭圆偏振光谱仪(PEM)PEM 调制频率50 kHz
光谱范围190–885nm(NIR 版至 2100nm)光源75W 氙灯
膜厚测量范围1 Å – 50 μm探测器PMT(紫外)、InGaAs/IGA(近红外)
椭偏角范围Ψ 0–90°,Δ 0–360°准确度Ψ/Δ ±0.01°
重复性厚度约 ±0.1%,折射率约 ±0.0001变角范围40°–90°(步进 0.01°)
微光斑50μm / 100μm / 1mm(可选)采集模式FastAcq 双调制,全谱 ≤3 分钟

标准版与 NIR 扩展版怎么选

项目UVISEL Plus(标准版)UVISEL Plus NIR(扩展版)
光谱范围190 – 885 nm190 – 2100 nm
适用膜厚超薄膜至中厚膜(紫外–可见区灵敏度高)含厚膜与近红外吸收材料(至 50μm)
典型材料介电膜、半导体、有机物(紫外–可见区)厚氧化物、硅、化合物半导体、吸收膜
选型建议以紫外–可见薄膜表征为主的研发与质控需覆盖近红外或测量厚膜、吸收材料的场景

相位调制型与旋转元件型椭偏仪的区别

相位调制型(如 UVISEL Plus)在光路中使用高频 PEM 对相位进行调制,测量光路中没有旋转或平移的运动部件,因此抗震性好、长期稳定性高,适合产线在线监测与长时间动态测量。旋转元件型(旋转补偿器/旋转检偏器)通过机械旋转获取 Ψ/Δ,结构不同,各有适用场景。选用时应结合测量波段、膜厚范围、是否需要动态监测等因素综合判断。

软件与界面

DeltaPsi2

研究级分析软件,支持复杂多层膜建模、各向异性、渐变折射率、粗糙界面等高级模型,适合深入的薄膜光学表征。

AutoSoft

面向产线与常规检测的一键式软件,预设测量流程,非专业人员也可快速完成样品测量与结果输出。

一次测量可获取的信息

厚度与光学常数

膜层厚度、折射率 n、消光系数 k、吸收系数等基础光学参数。

材料与结构特征

带隙、介电函数、界面粗糙度、各向异性轴方向等深层信息。

过程与质量

膜层均匀性趋势、工艺窗口判定、在线生长/固化过程曲线。

数据库积累

测量数据可沉淀为材料光学常数库,支撑后续快速建模与比对。

本地化服务与技术支持

UVISEL Plus 由 HORIBA 制造,优尼康科技作为 HORIBA 椭偏仪中国区代理,提供从选型咨询、安装培训到售后的专业技术支持。如需评估样品适用性,可寄送样品或由工程师协助测试,确认测量方案后再行采购。

客户评价

UVISEL PLUS 从简单单层到复杂多层材料体系都能检测,这是椭偏仪的一大优势。作为核心共享设施的一部分,许多研究者都依赖它来解决材料难题。仪器操作简便,本科生半小时就能完成培训,我们中心每年接待约 100 名来自高校、科研机构与企业的用户。

美国俄亥俄州 MORE 中心

我们用 UVISEL Plus 表征半导体晶圆上的超薄 SiO₂ 薄膜,100nm 样品重复测量 10 次,膜厚平均值 99.8nm、RSD 小于 0.3%;聚合物折射率(n=1.52)测量偏差小于 0.003;三层膜建模结果与 TEM 截面厚度偏差小于 1nm,数据稳定性得到团队认可。

某半导体检测实验室

UVISEL Plus 用于 III-V 族半导体(AlGaN/GaN)异质结的厚度与光学色散表征,也用于 OLED 完整叠层、有机半导体的厚度与光学常数测定。相位调制光路无运动部件,长期测量重复性表现稳定,配合 DeltaPsi2 软件的多层建模功能,复杂结构分析效率较高。

某化合物半导体研发中心

UVISEL Plus 光谱椭偏仪 常见问题

UVISEL Plus 的测量波长范围是多少?+

标准版 UVISEL Plus 光谱范围为 190–885nm(远紫外至可见近红外);UVISEL Plus NIR 扩展版可延伸至 2100nm。用户可根据被测材料的吸收特性与膜厚范围选择对应版本。

UVISEL Plus 能测多厚的薄膜?+

膜厚测量范围覆盖 1 埃(Å)至 50 微米(μm)。超薄膜依赖紫外波段的高灵敏度,厚膜则依赖近红外波段的光谱分辨率,NIR 版对厚膜与吸收材料更合适。

相位调制型椭偏仪有什么优势?+

UVISEL Plus 采用 50kHz 高频 PEM,测量光路无运动部件,抗震性与长期稳定性好,信噪比高,适合产线在线监测与动态过程测量,维护也相对简单。

测量需要多长的时间?+

得益于 FastAcq 双调制快速采集技术,全谱采集通常可在 3 分钟内完成;毫秒级动态采集模式还可用于实时工艺监测。

UVISEL Plus 与 FilmSense FS 系列有什么区别?+

FilmSense FS 系列是固定多波长椭偏仪,结构紧凑、测量快捷,适合产线快速检测;UVISEL Plus 是宽光谱相位调制型椭偏仪,光谱连续性好、建模能力强,更适合研发级深层薄膜光学表征。两者适用场景不同,可按研发或产线需求选择。

优尼康提供哪些本地化支持?+

优尼康科技作为 HORIBA 椭偏仪中国区代理,提供选型咨询、安装培训、售后技术支持与样品测试协助,帮助确认测量方案后再采购。

需要评估您的薄膜样品?

UVISEL Plus Sample Evaluation

不确定您的薄膜样品是否适合 UVISEL Plus 测量?优尼康科技提供样品测试与选型咨询,专业工程师将协助您确认测量方案。也可以直接拨打测量咨询热线 400-186-8882。

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