KLA P-7 探针式台阶仪
高精度接触式台阶测量系统，涵盖纳米至毫米级台阶高度、粗糙度、翘曲度与薄膜应力表征
KLA P-7 探针式台阶仪（表面轮廓仪）由优尼康科技代理供应，是 KLA 基于 P-17 平台技术推出的高性价比台式探针轮廓分析系统。
P-7 采用金刚石探针接触式扫描原理，集成 LVDC（线性可变差分电容）传感器技术，实现从纳米级至 1mm 的台阶高度、表面粗糙度、翘曲度及薄膜应力的精准测量。垂直方向分辨率达 0.01Å（亚埃级），恒定力控制范围 0.03~50mg，扫描范围 150mm 无需图像拼接。系统广泛适用于半导体晶圆、化合物半导体、MEMS、LED、太阳能电池、精密光学、柔性电子及汽车电子等行业，满足研发实验室到全自动产线的多样化表面形貌表征需求。优尼康科技提供专业技术支持与样机演示服务。
垂直分辨率达 0.01Å（亚埃级），台阶高度测量范围覆盖几纳米至 1000µm，可精确表征原子层沉积、光刻胶台阶、蚀刻深度及厚膜台阶等多种样品形貌。
动态力控制 0.03~50mg，低针压可保护软质材料（光刻胶、柔性薄膜、OLED 材料），同时保障硬质材料的测量重复性，适配多元样品类型。
150mm 全直径扫描能力，无需图像拼接即可完成 6 英寸及以下样品全域表征，支持 2D/3D 轮廓、粗糙度与应力翘曲度分析。
集成 500 万像素高清摄像机、图案识别与 SECS/GEM 功能，可自动序列测量、批量数据处理，适配产线全自动化测试需求。
提供调平、滤波、台阶高度、粗糙度（ISO/ASME）、应力计算等扩展算法，支持 3D 成像与自定义报告输出，提升数据分析效率。
广泛适用于半导体晶圆、化合物半导体、MEMS、LED、太阳能电池、精密光学、柔性电子及汽车电子等行业，覆盖研发到产线的表面形貌表征需求。
| 台阶高度范围 | 几纳米 ~ 1000µm | 垂直分辨率 | 0.01Å（亚埃级） |
| 重复性（1µm 标准台阶） | 4Å（0.10%） | 恒定针压力范围 | 0.03 ~ 50mg |
| 扫描长度（X 轴） | 150mm（无拼接） | 水平分辨率 X | 0.025µm / 数据点 |
| 摄像机系统 | 500 万像素彩色高清，支持图案识别 | 品牌 | KLA |
| 软件功能 | 台阶高度、粗糙度、应力分析（2D/3D）、3D 成像、自动序列、SECS/GEM | ||
| 更多参数及定制配置请联系我们获取 | |||
P-7 覆盖从半导体前道工艺到柔性电子后道封装的多种表面形貌与粗糙度表征场景：
在半导体与化合物半导体领域，P-7 用于光刻胶台阶、蚀刻深度与 CMP 平坦度测量；在 MEMS 与传感器领域，用于微结构台阶高度与深硅刻蚀表征；在 LED 与光电子领域，用于外延片翘曲与 ITO 透明电极台阶测量；在柔性电子与薄膜领域，用于聚合物薄膜厚度与 PI 膜翘曲分析；在薄膜应力分析中，支持 2D/3D 应力分布与 Stoney 应力计算；在失效分析中，用于表面划痕深度与凸起形貌表征。
KLA P-7 探针式台阶仪采用 LVDC（线性可变差分电容）传感器技术。探针与样品表面物理接触，传感器感知探针随表面形貌的垂直位移，将电容变化转换为高精度地形信号。LVDC 设计具有质量小、线性运动、低滞后与极低摩擦的优点，结合闭环力反馈，确保在整个垂直量程内保持恒定针压，实现纳米级至毫米级台阶的精确、稳定测量。
台阶高度扫描曲线
3D 表面形貌成像
“P-7 探针式台阶仪解决了我们之前台阶仪针压不稳定的痛点，0.03mg 微力下即使测量软质光刻胶也没有划痕，重复性高。150mm 全尺寸扫描无需拼接，对我们 6 英寸化合物半导体晶圆翘曲监控效率提升明显。”
“从 P-7 的性价比来看，在同级别台阶仪中优势明显。不仅是台阶高度，粗糙度和应力分析的功能全面，加上优尼康提供的本地技术支持，安装培训仅半天就上手。”
垂直分辨率达 0.01Å（亚埃级），对 1µm 标准台阶重复性达 4Å（0.10%）。恒定微力低至 0.03mg，对光刻胶、软金属等软质材料无明显损伤，可安全测量脆软样品。
可以。配合应力卡盘测量翘曲度变化，内置 Stoney 方程，支持 2D 线扫描与 3D 多点应力云图分析，适用于薄膜沉积后的应力表征与工艺监控。
支持全自动配置：图案识别、Recipe 序列与 SECS/GEM 协议，适配 FAB 及无人值守车间，满足产线批量测试与数据自动上传需求。
全直径扫描范围 150mm，兼容 6 英寸及以下圆形、方形样品；异形件可借助定制夹具固定后测量，灵活适配不同形态的测试需求。
支持 ISO 4287、ASME B46.1 等标准，提供台阶高度、粗糙度、应力、3D 体积与面积等多种分析功能，并支持自定义报告输出。
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