KLA Zeta-388 光学轮廓仪

优尼康科技提供的KLA Zeta-388光学轮廓仪,采用ZDot专利技术及多模式光学系统,是一款非接触式三维(3D)表面形貌测量系统。系统集成六种不同的光学量测技术,包括白光干涉测量、诺马斯基干涉对比显微术、剪切干涉测量及光谱反射测厚等。ZDot测量模式可同时采集高分辨率3D形貌信息和样品表面真彩色无限远焦点图像。Zeta-388在Zeta-300的基础上增加了晶圆盒到晶圆盒(cassette-to-cassette)的晶圆传送机械臂,支持全自动测量,集成防震台及SECS/GEM通信协议。测量能力包括:亚纳米至毫米级台阶高度、亚纳米至亚毫米级表面粗糙度(含波纹度分析)、30nm至100μm透明薄膜厚度、2D/3D薄膜应力、2D/3D晶圆翘曲及外形,自动缺陷检测可识别横向尺寸大于1μm的缺陷。适用于半导体和化合物半导体、无线通讯器件(SAW/BAW/FBAR)、LED(含PSS图形化蓝宝石衬底)、晶圆级封装(WLCSP/FOWLP)、MEMS微机电系统、PCB及柔性电路板、医疗器械及微流体元件等领域。优尼康科技提供专业技术支持。

  • 产品名称 光学轮廓仪
  • 品牌 KLA
  • 产品型号 Zeta-388
  • 产地 美国


KLA Zeta-388 光学轮廓仪



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优尼康科技提供的KLA Zeta-388光学轮廓仪,采用ZDot技术及多模式光学系统,是一款非接触式三维(3D)表面形貌测量系统。系统集成六种不同的光学量测技术,包括白光干涉测量、诺马斯基干涉对比显微术、剪切干涉测量及光谱反射测厚等。ZDot测量模式可同时采集高分辨率3D形貌信息和样品表面真彩色无限远焦点图像。Zeta-388在Zeta-300的基础上增加了晶圆盒到晶圆盒(cassette-to-cassette)的晶圆传送机械臂,支持全自动测量,集成防震台及SECS/GEM通信协议。测量能力包括:亚纳米至毫米级台阶高度、亚纳米至亚毫米级表面粗糙度(含波纹度分析)、30nm至100μm透明薄膜厚度、2D/3D薄膜应力、2D/3D晶圆翘曲及外形,自动缺陷检测可识别横向尺寸大于1μm的缺陷。适用于半导体和化合物半导体、无线通讯器件(SAW/BAW/FBAR)、LED(含PSS图形化蓝宝石衬底)、晶圆级封装(WLCSP/FOWLP)、MEMS微机电系统、PCB及柔性电路板、医疗器械及微流体元件等领域。优尼康科技提供专业技术支持。


KLA Zeta-388 光学轮廓仪产品介绍:

KLA Zeta-388光学轮廓仪是非接触式三维表面形貌测量系统。该系统在Zeta-300光学轮廓仪的基础上,增加了用于全自动测量的机械手臂操作系统。Zeta-388光学轮廓仪采用ZDot技术和多模组光学系统,可测量各种不同的样品:包括透明与不透明、低至高反射率、光滑到粗糙的表面,以及亚纳米级到毫米级的台阶高度。KLA Zeta-388光学轮廓仪支持OCRSECS/GEM,从而可用于全自动产线的生产制造。



KLA Zeta-388 光学轮廓仪产品特点:

  • 快速的非接触式三维光学轮廓仪

  • 多模组光学系统提供3D扫描、差分干涉、薄膜厚度和自动缺陷检测

  • 全自动测量

  • 同时提取样品表面的真彩色信息和形貌信息

  • 支持100200mm的晶圆

  • 支持OCRSECS/GEM,适用于自动化产线的生产环境

  • 用户界面简洁直观



KLA Zeta-388 光学轮廓仪主要应用:

  • 从纳米级到毫米级的台阶高度,可用于高深宽比台阶测量

  • 从亚纳米级至亚毫米级的表面粗糙度分析,适用于光滑表面和粗糙表面

  • Z向高分辨率的白光干涉测量,可用于广域台阶高度测量

  • 移相扫描干涉技术可快速测量小于250nm的台阶高度

  • 薄膜应力和样品翘曲测量

  • 测量30nm100μm透明薄膜的厚度,可提供薄膜均匀性数据和薄膜厚度分布图

  • 自动缺陷检测,可识别横向尺寸大于1μm的缺陷



KLA Zeta-388 光学轮廓仪产品测量原理:

KLA Zeta-388 光学轮廓仪的原理是通过共聚焦原理实现样品的高分辨率、高对比度的光学切片能力。它结合了传统光学显微镜和激光共聚焦显微镜的特点,利用宽谱白光作为光源,通过空间滤波机制消除离焦光干扰,从而获得高精度的三维图像


KLA Zeta-388 光学轮廓仪其他应用:

图形化蓝宝石衬底

VCSEL元件

纳米级台阶高度

激光切割

晶圆级封装

其他应用



KLA Zeta-388 光学轮廓仪测量图:

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