5月会议预告｜诚邀您参加成都表界面、杭州半导体会议，我们现场见！
2025-04-29 13:47:07
admin
成都
表界面科学跨越物质、能源和信息等众多基础学科，是催化、超导和芯片等国家重大战略需求的共性科学基础。全面展示我国表界面相关领域的最新研究进展，推动学科发展，为我国新质生产力的发展做出贡献。由中国化学会物理化学学科委员会主办，北京大学纳米器件物理与化学教育部重点实验室承办。
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诚邀各位莅临优尼康展位B64,探讨表面测量的种种应用。
杭州
目前，第三代半导体材料（例如碳化硅、氮化镓等）已经深入发展并得到广泛应用，而以氧化镓、金刚石和氮化铝等为代表的第四代半导体材料也在逐步崭露头角，呈现蓬勃发展态势。为促进全国范围内第四代半导体学术、技术的交流合作和产业发展，在浙江省杭州市共同组织召开2025年第四代半导体技术研讨会。
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参展设备
 F50 膜厚测量仪 | ||
F50可以非常简单地获得最大直径450毫米的样品薄膜厚度分布图。采用r-θ 极坐标移动平台，可以快速定位所需的测试点并且实时获得测试厚度，大约每秒测试两点。 | ||
相关应用：半导体制造（光刻胶、氧化物/氮化物/SOI、晶圆背面研磨）；LCD 液晶显示器（聚酰亚胺、ITO 透明导电膜）；光学镀膜（硬涂层、抗反射层）；MEMS 微机电系统（光刻胶、硅系膜层）。 |
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Filmetrics F20 膜厚测量仪 | ||
您是想要知道薄膜厚度、光学常数，还是想要知道材料的反射率和透过率，F20都能满足您的需要。仅需花费几分钟完成安装，通过USB连接电脑，设备就可以在数秒内得到测量结果。基于某模块化设计的特点，F20适用于各种应用。 | ||
相关应用：光刻胶、工艺薄膜、介电材料、硬涂层、Parylene、抗反射层、医疗设备、OLED、玻璃厚度、ITO与其他TCO。 |