Filmetrics F54-XY-200 自动光学膜厚测量仪

优尼康科技提供的Filmetrics F54-XY-200自动光学膜厚测量测绘仪,采用先进的光谱反射技术,适用于直径达200mm的带图案或无图案样品的薄膜厚度自动测绘。五种配置覆盖膜厚测量范围4nm至120μm,光斑尺寸2μm至100μm,波长范围可配置覆盖190-1700nm。电动XY工作台自动移动到预选测量点,测量速度最高可达每秒2个点位。系统支持数十种预定义的极坐标、矩形、线性测绘图案,也可自定义创建测量点阵,无测量点数量限制。配备自动对焦、图案识别、实时影像、手动/自动倾斜校正等功能,内置反射率和厚度标准片,搭载全面的材料库和先进建模算法。精度达1nm或0.2%,重复性0.02nm,稳定性0.05nm。适用于半导体制造(氧化物/氮化物/SOI、光刻胶)、化合物半导体、LCD液晶显示器(ITO/TCO、聚酰亚胺)、光学涂层(硬质涂层、增透膜)、生物医学薄膜、MEMS微机电系统等行业。优尼康科技提供专业技术支持。
Filmetrics F54-XY-200 自动光学膜厚测量仪产品介绍:
Filmetrics F54-XY-200 自动光学膜厚测量仪借助光谱反射系统,可以测量尺寸达200 x 200mm样品的薄膜厚度电动XY工作台自动移动到选定的测量点并提供厚度测量,达到每秒两点。您可以从数十种预定义的极性,矩形或线性测量坐标图案中选择,也可以创建自己编辑的测量点数量。此桌面系统只需几分钟即可完成设置,任何具有基本计算机技能的人都可以使用。
Filmetrics F54-XY-200 自动光学膜厚测量仪产品特点优势:
Filmetrics F54-XY-200 自动光学膜厚测量仪测量原理:
当入射光穿透不同物质的界面时将会有部分的光被反射,由于光的波动性导致从多个界面的反射光彼此干涉,从而使反射光的多波长光谱产生震荡的现象。从光谱的震荡频率,可以判断不同界面的距离进而得到材料的厚度(越多的震荡代表越大的厚度),同时也能得到其他的材料特性如折射率与粗糙度。

Filmetrics F54-XY-200 自动光学膜厚测量仪工业应用:
半导体膜层 | 显示技术 | 消费电子 | 派瑞林 |
光刻胶 | OLED | 防水涂层 | 电子产品/电路板 |
介电层 | ITO和TCOs | 射频识别 | 磁性材料 |
砷化镓 | 空气盒厚 | 太阳能电池 | 医学器械 |
微机电系统 | PVD和CVD | 铝制外壳阳极膜 | 硅橡胶 |
Filmetrics F54-XY-200 自动光学膜厚测量仪参数:
波长范围: | 190nm-1700nm | 光源: | 钨卤素灯、氘灯 |
测量nk值厚度要求*: | 50nm | 测量精度2: | 0.02nm |
准确度*:取较大者 | 1nm或0.2% | 稳定性3: | 0.05nm |
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Filmetrics F54-XY-200 自动光学膜厚测量仪测量图: