Filmetrics F3-sX 光学厚膜测厚仪利用光谱反射原理，可以测量厚度达到3毫米的众多半导体及介电层薄膜。相对于较薄的膜层，这种厚膜的表面较粗糙且不均匀，F3-sX系列膜厚仪配置10微米的测量光斑，从而可以容易地测量其他膜厚测量仪器不能测量的膜层，并且仅在几分之一秒内完成。F3-sX膜厚仪在Si晶圆厚度测量、护涂层、IC芯片失效分析、厚光刻胶等方面优异表现。
Filmetrics F3-sX 光学厚膜测厚仪利用光谱反射原理，可以测量厚度达到3毫米的众多半导体及介电层薄膜。相对于较薄的膜层，这种厚膜的表面较粗糙且不均匀，F3-sX系列膜厚仪配置10微米的测量光斑，从而可以容易地测量其他膜厚测量仪器不能测量的膜层，并且仅在几分之一秒内完成。F3-sX膜厚仪在Si晶圆厚度测量、护涂层、IC芯片失效分析、厚光刻胶等方面优异表现。
非接触测量：避免损伤薄膜，适用于脆弱或敏感材料；
多场景适用性：基本上光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量。
测量速度快：配置完成后，数秒内即可完成测量。
采用近红外光(NIR)来测量膜层厚度，因此可以测试一些肉眼看是不透明的膜层
配件包括自动绘图平台、测量点可视化摄像机，和可见光扩展波段选项
当入射光穿透不同物质的界面时将会有部分的光被反射，由于光的波动性导致从多个界面的反射光彼此干涉，从而使反射光的多波长光谱产生震荡的现象。从光谱的震荡频率，可以判断不同界面的距离进而得到材料的厚度（越多的震荡代表越大的厚度），同时也能得到其他的材料特性如折射率与粗糙度。
薄膜特性：厚度、反射率、透射率、光学常数、均匀性、刻蚀量等
薄膜种类：透明及半透明薄膜，常见如氧化物、聚合物甚至空气
薄膜状态：固态、液态和气态薄膜都可以测量
薄膜结构：单层膜、多层膜；平面、曲面
显示技术 | 消费电子 | 派瑞林 | |
光刻胶 | OLED | 防水涂层 | 电子产品/电路板 |
介电层 | ITO和TCOs | 射频识别 | 磁性材料 |
砷化镓 | 空气盒厚 | 太阳能电池 | 医学器械 |
微机电系统 | PVD和CVD | 铝制外壳阳极膜 | 硅橡胶 |
波长范围： | 1280-1340nm | 光源： | 200KMTBFSLED |
厚度测量范围n=1.5： | 15um-2mm | 厚度测量范围n=3.5： | 7um-1mm |
光斑大小： | 标准工作距离53mm | 测量精度： | 5nm |
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